专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]静态随机存取存储器-CN200610118818.9有效
  • 赵光来 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
  • 2006-11-28 - 2008-06-04 - G11C11/413
  • 本发明静态随机存取存储器提供了控制位线隔离端的位线隔离电路和控制互补位线隔离端的互补位线隔离电路,所述位线或互补位线隔离电路包括位线或互补位线节点信号电路和位线或互补位线隔离信号电路,所述位线或互补位线隔离电路产生位线或互补位线隔离信号,通过位线或互补位线隔离信号对于位线隔离端和互补位线隔离端实现分别独立控制,使得同一时刻同一存储单元阵列上的位线或互补位线只有一条导通,从而降低了位线或互补位线上的电流功耗,进而降低整个静态随机存取存储器的功耗
  • 静态随机存取存储器
  • [发明专利]动态随机存储器-CN200610118819.3有效
  • 赵光来 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
  • 2006-11-28 - 2008-06-04 - G11C11/4094
  • 本发明动态随机存取存储器提供了控制位线隔离端的位线隔离电路和控制互补位线隔离端的互补位线隔离电路,所述位线或互补位线隔离电路包括位线或互补位线节点信号电路和位线或互补位线隔离信号电路,所述位线或互补位线隔离电路产生位线或互补位线隔离信号,通过位线或互补位线隔离信号对于位线隔离端和互补位线隔离端实现分别独立控制,使得同一时刻同一存储单元阵列上的位线或互补位线只有一条导通,从而降低了位线或互补位线上的电流功耗,进而降低整个动态随机存取存储器的功耗
  • 动态随机存储器
  • [发明专利]半导体存储装置及其驱动方法-CN200610159218.7无效
  • 金东槿;都昌镐 - 海力士半导体有限公司
  • 2006-09-22 - 2007-04-04 - G11C11/4094
  • 一种具有共享的位线读出放大器的半导体存储装置。该半导体存储装置包括:位线读出放大器,其用于对施加于位线对上的数据进行放大;上部位线断开单元,其用于响应于上部位线断开信号而使该位线读出放大器自上部单元阵列的位线对上选择性断开;下部位线断开单元,其用于响应于下部位线断开信号而使该位线读出放大器自下部单元阵列的位线对上选择性断开;上部位线均衡单元,其用于响应于该下部位线断开信号而使该上部单元阵列的该位线对均衡;及下部位线均衡单元,其用于响应于该上部位线断开信号而使该下部单元阵列的该位线对均衡。
  • 半导体存储装置及其驱动方法
  • [发明专利]一种半导体器件的制造方法-CN202110266761.1在审
  • 李春雨;杨涛;李俊峰;王文武 - 中国科学院微电子研究所;真芯(北京)半导体有限责任公司
  • 2021-03-11 - 2022-09-20 - H01L21/8242
  • 本发明提供了一种半导体器件的制造方法,该制造方法包括:提供一基底;在基底上沉积牺牲膜层;在牺牲膜层及基底中形成位线接触塞图案,位线接触塞图案包括多个位线接触塞;去除牺牲膜层;在基底上形成位线图案,位线图案包括多根位线通过在形成位线接触塞图案之前,先在基底表面沉积一层牺牲膜层;在形成位线接触塞图案之后,去除牺牲膜层,从而防止位线接触塞处相对基底的其他位置高度较低,消除位线接触塞与基底其他位置的高度差,使位线接触塞处的高度与基底的其他位置高度平齐从而在后续形成位线图案时,能够防止位线接触塞处的位线的侧面被刻蚀,能够防止位线位线接触塞处的线宽缩减,防止出现位线电阻升高或位线断裂等不良现象。
  • 一种半导体器件制造方法
  • [发明专利]一种存储器制作方法-CN202010895429.7在审
  • 卢经文 - 长鑫存储技术有限公司
  • 2020-08-31 - 2022-03-01 - H01L21/8242
  • 本发明实施例提供一种存储器制作方法,包括:提供基底,在基底上形成牺牲层;图形化牺牲层,在基底上形成多个相互分立的伪位线层;形成支撑层,支撑层填充满相邻伪位线层之间的区域;去除伪位线层,形成位于相邻支撑层之间的位线空间;形成位线结构,位线结构填充位线空间,且位线结构包括依次堆叠的位线导电层以及位线绝缘层;去除支撑层,形成位于相邻位线层之间的开口。本发明实施例中提供的存储器制作方法,避免了在刻蚀形成位线结构出现的位线导电层形貌缺陷问题,同时也可避免位线导电层出现过刻蚀的情况,改善位线导电层的受损情况,从而提高位线导电层的导电能力,改善存储器的电学性能
  • 一种存储器制作方法
  • [发明专利]一种控制位线泄放电流的装置-CN201510141348.7有效
  • 梁超 - 西安紫光国芯半导体有限公司
  • 2015-03-27 - 2018-10-16 - G11C11/4063
  • 本发明涉及一种控制位线泄放电流的装置,包括VOD电源、VBLH电源、开关V1、开关V2、位线阵列、公共位线以及电流源,位线阵列中的每个位线与公共位线连接,公共位线通过开关V1与VOD电源连接,公共位线通过开关V2与VBLH电源连接,电流源产生泄放电流Ib通过公共位线位线阵列中的充电位线充电,还包括控制器,控制器用于根据位线阵列中充电位线地址,控制电流源产生需要的泄放电流Ib。本发明解决了现有的控制位线泄放电流的装置中存在不同地址的位线使用同样泄放电流时产生过冲或者到达VBLH时间过长的技术问题,本发明使用控制器利用位线地址控制泄放电流大小,能够根据需要产生对应的泄放电流,使得位线电压过冲减少
  • 一种控制字线泄放电流装置
  • [发明专利]重叠的预充电和数据写入-CN201780041790.X有效
  • S·戈什;晶昌镐 - 高通股份有限公司
  • 2017-06-08 - 2020-02-28 - G11C7/12
  • 存储器包括多个存储器单元和多个位线。多个位线中的每个位线被耦合到多个存储器单元中的对应的一个存储器单元。预充电电路在读取操作之前对多个位线中的每个位线进行预充电,并且在读取操作之后对多个位线中除一个位线之外的所有位线进行预充电。写入驱动器在读取操作之后驱动多个位线中的一个位线。方法包括在读取操作之前对多个位线中的每个位线进行预充电。多个位线中的每个位线被耦合到多个存储器单元中的对应的一个存储器单元。方法进一步包括在读取操作之后对多个位线中除一个位线之外的所有位线进行预充电,以及在读取操作之后驱动多个位线中的一个位线
  • 重叠充电数据写入

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